Колонная аппаратура

Колонные аппараты с пленочной регулярной насадкой типа КСПН по ОСТ 26-01-1029-81 и структурированными насадками Вакупак и Кедр

Предназначены для проведения процессов ректификации и абсорбации при наличие больших нагрузок по пару в химической, нефтехимической, коксохимической и других отраслях промышленности.

Основной рабочий орган колонны - насадки Вакупак, Кедр, плоскопараллельная и Z-образная насадка, устанавливаемая на опорных решетках в несколько ярусов и орошаемая желобчатыми или форсуночными распределительными устройствами.

Колонные аппараты с регуляторной насадкой - единичная продукция.

Технические характеристики колонных аппаратов с пленочной регулярной насадкой типа КСНП и структурированными насадками вакупак и кедр:

Рабочее давление, МПа (кгс/см2)

до 1 (10) или вакуум не ниже 20мм рт. ст.

Температура, С

от –40 до +425

Диаметр аппарата, мм:

2200-9000

Материал:

Корпуса, опоры, внутренних устройств

ВСт3сп (3-5), 09Г2С, сталь 10-20,12Х18Н10Т, 10Х17Н13М2Т, 10Х17Н13М2Т.

насадки

ВСт3сп (3-5), 09Г2С, сталь 10-20,12Х18Н10Т, 10Х17Н13М2Т, 10Х17Н13М2Т, 08Х13,АМГЗ, 12Х18Н10Т, 10Х17Н13М2Т

Масса, кг

20000 и более

 

Применяются следующие виды насадки:

  • Кольца «Рашига»
  • Плёночная регулярная насадка типа КСПН
  • «Вакупак»
  • «Кедр»

«Вакупак» «Кедр»